研究者情報 | 神奈川大学

ホシノ　ヤスシ Hoshino Yasushi 星野　靖所属神奈川大学理学部理学科神奈川大学大学院理学研究科理学専攻（物理学領域）職種准教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2004/12
形態種別	学術雑誌
査読	査読あり
標題	Atomic scale characterization of HfO₂/Al₂O₃ thin films grown on nitrided and oxidized Si substrates
執筆形態	共著
掲載誌名	Journal of Applied Physics
掲載区分	国外
巻・号・頁	96,pp.6113-6119
著者・共著者	T. Nishimura, T. Okazawa, Y. Hoshino, Y. Kido, K. Iwamoto, K. Tominaga, T. Nabatame, T. Yasuda, A. Toriumi