![]()
|
|
|
ミズノ トモヒサ
Mizuno Tomohisa 水野 智久 所属 神奈川大学 理学部 理学科 神奈川大学大学院 理学研究科 理学専攻(物理学領域) 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2019/02 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | SiC nanodot formation in amorphous-Si and poly-Si substrates using a hot-C+-ion implantation technique |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
| 掲載区分 | 国外 |
| 出版社・発行元 | IOP Publishing |
| 巻・号・頁 | 58,pp.SBBJ01-1-SBBJ01-10 |
| 著者・共著者 | Tomohisa Mizuno, Rikito Kanazawa, Takashi Aoki, and Toshiyuki Sameshima |
| DOI | https://doi.org/10.7567/1347-4065/ab2ac9 |