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| ホシノ ヤスシ
            Hoshino Yasushi 星野 靖 所属 神奈川大学 理学部 理学科 神奈川大学大学院 理学研究科 理学専攻(物理学領域) 職種 准教授 | |
| 言語種別 | 英語 | 
| 発行・発表の年月 | 2006/05 | 
| 形態種別 | 大学・研究所等紀要 | 
| 標題 | Initial Growth Processes of Ultra-thin Ni-Layers on Si(111) and Electronic Structure of Epitaxially Grown NiSi2 | 
| 執筆形態 | 共著 | 
| 掲載誌名 | Memoirs of the SR center Ritsumeikan University | 
| 掲載区分 | 国内 | 
| 巻・号・頁 | 8 | 
| 著者・共著者 | T. Nishimura, J. Takeda, Y. Asami, Y. Hoshino, Y. Kido* |