ホリ ヒサオ   Hori Hisao
  堀 久男
   所属   神奈川大学  理学部 理学科
    神奈川大学大学院  理学研究科 理学専攻(化学領域)
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 1994/04
形態種別 その他
標題 (特許取得)
Methods of manufacturing III-V group compounds semiconductor
執筆形態 共著
掲載誌名 United States Patent No.5300185
著者・共著者 H. Hori, Y. Kawakyu, H. Ishikawa, M. Mashita
概要 Ⅲ-Ⅴ族化合物半導体薄膜成長において、V族源として使用する化合物の最適構造を規定した。