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ヨコザワ ツトム
Yokozawa Tsutomu 横澤 勉 所属 神奈川大学 化学生命学部 応用化学科 神奈川大学大学院 工学研究科 工学専攻（応用化学領域） 職種 教授 |
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| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 2018/05 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 標題 | Novel photoresist using photodeprotectable N-alkoxybenzyl aromatic polyamide |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | J. Photopolym. Sci. Technol. |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 31(4),467-472頁 |
| 著者・共著者 | ◎K. Iwashita, R. Suzuki, H. Katoh, Y. Ohta, T. Yokozawa |
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