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ホシノ ヤスシ
Hoshino Yasushi 星野 靖 所属 神奈川大学 理学部 理学科 神奈川大学大学院 理学研究科 理学専攻(物理学領域) 職種 准教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2005/08 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Initial growth processes of ultra-thin Ni layers on Si(111) and electronic structure of eitaxially grown NiSi2 |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Surface Science |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 588,pp.71-82 |
| 著者・共著者 | T. Nishimura, J. Takeda, Y. Asami, Y. Hoshino, Y. Kido* |