|
|
ミズノ トモヒサ
Mizuno Tomohisa 水野 智久 所属 神奈川大学 理学部 理学科 神奈川大学大学院 理学研究科 理学専攻(物理学領域) 職種 教授 |
|
言語種別 | 日本語 |
発行・発表の年月 | 2000 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Design of SiGe/buried oxide layered structure to form highly strained Si layer on insulator for SOI MOSFETs |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Extended Abst. of SSDM (2000). |
巻・号・頁 | 474頁 |
概要 | N.Sugiyama, T.Mizuno, M.Suzuki, and S.Takagi |