ヨコザワ ツトム   Yokozawa Tsutomu
  横澤 勉
   所属   神奈川大学  工学部 物質生命化学科
    神奈川大学大学院  工学研究科 工学専攻(応用化学領域)
   職種   教授
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2018/05
形態種別 学術雑誌
標題 Novel Photoresist using Photodeprotectable N-Alkoxybenzyl Aromatic Polyamide
執筆形態 共著
掲載誌名 J. Photopolym. Sci. Technol.
掲載区分国外
巻・号・頁 31(4),467-472頁
著者・共著者 ◎K. Iwashita, R. Suzuki, H. Katoh, Y. Ohta, T. Yokozawa