研究者情報 | 神奈川大学

ホリ　ヒサオ Hori Hisao 堀　久男所属神奈川大学理学部理学科神奈川大学大学院理学研究科理学専攻（化学領域）職種教授
発表年月日	2015/06/25
発表テーマ	有機カチオンを持つフッ素系表面処理剤の亜臨界水分解処理の検討
発表学会名	第24回環境化学討論会
主催者	日本環境化学会
学会区分	全国学会
発表形式	口頭（一般）
単独共同区分	単独
開催地名	札幌
発表者・共同発表者	横田　弘明，堀　久男
概要	フッ素系表面処理剤は耐熱性や耐薬品性に優れているため様々な産業で使用されてきた。しかしながら2000年以降、一部の物質について環境影響が懸念されたため、分解・無害化方法の研究が盛んに行われている。しかしながらこれまでに研究対象となった物質は、我々の例1-3)も含めて全てアルカリ金属または水素イオンのカチオンとペルフルオロアルキル構造（CnF2n+1–）を持つスルホン酸もしくはカルボン酸のアニオンから構成されるもので、有機物のカチオンを持つ場合についての報告例は、現実に使用されているにもかかわらず皆無であった。そこで本研究では電子産業プロセスで光酸発生剤等として使用されつつある新しい表面処理剤[(C6H5)3S][CnF2n+1SO3](n = 1, 4)について、種々の還元剤（Fe、FeO）あるいは酸化剤（O2）を添加した亜臨界水または超臨界水反応でフッ化物イオンまで分解することを検討したので報告した。