ヤマグチ カズオ   Yamaguchi Kazuo
  山口 和夫
   所属   神奈川大学  理学部 化学科
   職種   教授
発表年月日 2019/05
発表テーマ 位置選択的アミノ-カルボキシ化表面の作製にむけた光応答性表面修飾剤の合成と評価
発表学会名 第68回高分子学会年次大会
学会区分 全国学会
発表形式 ポスター
単独共同区分 共同
発表者・共同発表者 猪狩拓真、山口和夫
概要 光照射によりアミンを生成する2-ニトロベンジルカルバマートを介して他末端にカルボン酸を持つホスホン酸誘導体を合成した。このホスホン酸からITO電極上に自己組織化単分子膜を形成させたのち、フォトマスクを介して光照射により、照射部分にアミンが生成し、未照射部分にはカルボン酸が保持されたパターンが一段階で得られることが分かった。