1.
|
2024/09/19
|
ダイヤモンドへの高濃度Bイオン注入による低抵抗ドープ層形成における注入時基板温度依存性(第85回応用物理学会秋季学術講演会)
|
2.
|
2024/09/19
|
高濃度P+イオン注入によるn型ダイヤモンド半導体形成に向けた研究(第85回応用物理学会秋季学術講演会)
|
3.
|
2024/09/17
|
鉱物飛跡検出器を用いたQ-ball探索における光学読み取りシステムの開発(第79回日本物理学会年次大会)
|
4.
|
2024/09/17
|
鉱物飛跡検出器を用いた地球年代スケールの重い暗黒物質の探索と宇宙線研究(第79回日本物理学会年次大会)
|
5.
|
2024/09/16
|
暗黒物質直接探索に向けた超微粒子原子核乾板の低バックグラウンド化のための新たな作成手法の開発(第79回日本物理学会年次大会)
|
6.
|
2024/09/16
|
鉱物飛跡検出器を用いた未知宇宙線事象探索のための飛跡形状ならびに飛跡形成閾値に関する研究(第79回日本物理学会年次大会)
|
7.
|
2024/09/12
|
地質試料を用いた暗黒物質の探索の試みについて(2024年鉱物科学会年会)
|
8.
|
2024/09/02
|
Compensation effect by deep donor center on B-implanted diamond at low concentrations(34th international conference on diamond and carbon materials)
|
9.
|
2024/07/11
|
DMICA: exploring Dark Matter in natural muscovite MICA(15th International Workshop on the Identification of Dark Matter 2024)
|
10.
|
2024/03/23
|
高純度ホモエピタキシャルCVDダイヤモンドへの低濃度Bイオン注入によるp型伝導層の形成と補償の影響(2024年第71回応用物理学会春季学術講演会)
|
11.
|
2024/03/20
|
原子核乾板による暗黒物質探索実験NEWSdmのグランサッソ研究所における実験推進状況の報告(2024年日本物理学会春季大会)
|
12.
|
2024/03/18
|
原子核乾板中のAgBr:I微結晶の発光の研究(2024年日本物理学会春季大会)
|
13.
|
2024/01/09
|
DMICA: exploring Dark Matter in natural muscovite MICA(Mineral Detection of Neutrinos and Dark Matter 2024)
|
14.
|
2023/12/06
|
共振球形型CVD 装置を用いた高純度ダイヤモンド薄膜合成と特性評価(第42回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
15.
|
2023/12/06
|
ヘテロエピタキシャル合成ダイヤモンド基板へのイオン注入を用いた 低濃度B ドーピングと電気特性評価(第42回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
16.
|
2023/12/06
|
プロセス改良による光STM 用CT プローブの剛体化(第42回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
17.
|
2023/12/05
|
DMICA: exploring Dark Matter in natural muscovite MICA(KASHIWA DARK MATTER SYMPOSIUM 2023)
|
18.
|
2023/09/21
|
B注入IIa型CVDダイヤモンドの電気特性への活性化アニール時間の影響(第84回応用物理学会秋季学術講演会)
|
19.
|
2023/09/21
|
高純度ダイヤモンドへの低濃度Bイオン注入によるp型電気伝導層形成(第84回応用物理学会秋季学術講演会)
|
20.
|
2023/09/16
|
低質量暗黒物質の探索に向けた超微粒子原子核乾板における低エネルギー反跳陽子飛跡の測定(第78回日本物理学会年次大会)
|
21.
|
2023/09/16
|
天然の白雲母を用いた暗黒物質の探索実験「DMICA」(第78回日本物理学会年次大会)
|
22.
|
2023/09/12
|
Optimization of activation annealing time for diamond doped by B ion implantation(The 33rd International Conference on Diamond and Carbon Materials)
|
23.
|
2022/12/14
|
ダイヤモンドへのAlイオン注入によるp型不純物ドーピング(第41回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
24.
|
2022/12/14
|
ダイヤモンド半導体へのBイオン注入における活性化アニール時間の最適化(第41回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
25.
|
2022/12/14
|
岩石中における低エネルギー原子核反跳トラック検出に関する基礎的研究(第41回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
26.
|
2022/12/14
|
イオン注入を用いた超高純度ダイヤモンド基板への低濃度Bドーピング(第41回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
27.
|
2022/11/17
|
イオン注入IIa型ダイヤモンドの活性化アニール時間の最適化(第36回ダイヤモンドシンポジウム)
|
28.
|
2022/09/23
|
Bイオン注入のみで作製したダイヤモンドショットキーバリアダイオード(2022年第82回応用物理学会秋季学術講演会 [東北大学])
|
29.
|
2022/09/23
|
耐圧1651 V、整流比3.6x105の全イオン注入法により作製したダイヤモンドショットキーバリアダイオード(2022年第82回応用物理学会秋季学術講演会 [東北大学])
|
30.
|
2022/09/13
|
Paleo-detectorの開発(日本天文学会2022年秋季年会 [新潟大学 Z121a])
|
31.
|
2022/09/08
|
エマルジョン暗黒物質探索実験 NEWSdm (1) 〜グランサッソ研究所における実験およびデータ解析状況〜(2022年日本物理学会 秋季大会 [岡山理科大])
|
32.
|
2022/09/08
|
エマルジョン暗黒物質探索実験 NEWSdm (3) 〜将来実験規模拡大に向けた飛跡読取速度高速化〜(2022年日本物理学会 秋季大会 [岡山理科大])
|
33.
|
2022/09/08
|
エマルジョン暗黒物質探索実験 NEWSdm (4) 〜低エネルギー陽子の検出性能の評価〜(2022年日本物理学会 秋季大会 [岡山理科大])
|
34.
|
2022/07/15
|
超微粒子原子核乾板を用いた100 keV領域の水素イオンの飛跡検出(日本写真学会)
|
35.
|
2022/06/07
|
Local structures of phosphorus atom implanted in diamond(15th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2022)
|
36.
|
2022/05/22
|
Development of Paleo-detectors(JpGU (Japan Geoscience Union) meeting 2022 (to be presented))
|
37.
|
2022/03/25
|
Pイオン注入ダイヤモンド中におけるP原子局所構造分析(II)(2022年第69回応用物理学会春季学術講演会)
|
38.
|
2022/03/25
|
[第43回優秀論文賞受賞記念講演] 高濃度B+イオン注入したIIa型ダイヤモンドの電気特性と伝導機構-イオン注入時及びポストアニール時の温度による効果-(2022年第69回応用物理学会春季学術講演会)
|
39.
|
2022/03/15
|
エマルジョン暗黒物質探索実験NEWSdm(1)~全体報告~(2022年日本物理学会 第77回年次大会)
|
40.
|
2022/03/15
|
エマルジョン暗黒物質探索実験NEWSdm(2)~LNGS地下実験データ取得状況報告~(2022年日本物理学会 第77回年次大会)
|
41.
|
2022/03/15
|
エマルジョン暗黒物質探索実験NEWSdm(3)~LNGS地下実験のデータ解析状況~(2022年日本物理学会 第77回年次大会)
|
42.
|
2021/12/08
|
導電透明プローブ用スパッタ蒸着ITO膜の電気特性評価(第40回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
43.
|
2021/12/08
|
イオン注入p 型ダイヤモンドショットキーバリアダイオードの I V 特性(第40回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
44.
|
2021/12/08
|
透明導電探針における新たな石英ファイバの剛体化手法の開発(第40回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
45.
|
2021/12/04
|
Pイオン注入したダイヤモンドに対するP原子の局所構造解析(第22回「イオンビームによる表面・界面の解析と改質」特別研究会)
|
46.
|
2021/10/05
|
Temperature and Ion-velocity Dependence of Crystal Sensitivity of Ultra-fine-crystal Nuclear-emulsion Plate(International Conference on Advanced Imaging 2021)
|
47.
|
2021/09/13
|
Pイオン注入ダイヤモンド中におけるP原子局所構造の X線吸収端近傍微細構造分析(2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会)
|
48.
|
2021/09/12
|
イオン注入法のみでドーピングし作製した ダイヤモンドショットキーバリアダイオード(2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会)
|
49.
|
2021/06/07
|
All-ion-implanted Diamond Schottky Barrier Diodes(International Conference of New Diamond and Nano Carbons 2021)
|
50.
|
2021/06/07
|
The remarkable progress of B doping in type IIa diamond by B ion implantation(14th International Conference on New Diamond and Nano Carbons 2021)
|
51.
|
2021/03/12
|
エマルジョン暗黒物質探索実験NEWSdm(3)~低バックグラウンド化へ向けた結晶感度の温度依存性評価~(日本物理学会第76回年次大会 12pV3)
|
52.
|
2021/01/12
|
Bイオン注入によるCVDダイヤモンド薄膜中への低補償率p型伝導層の形成(第34回ダイヤモンドシンポジウム)
|
53.
|
2020/12/16
|
MeV 級イオン照射用ビームラインの構築(第 39 回法政大学 イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
54.
|
2020/12/16
|
光 STM 用透明導電プローブの作製と評価(第 39 回法政大学 イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
55.
|
2020/12/16
|
マイクロ波プラズマ CVD を用いた SiC 上へのダイヤモンドのヘテロエピタキシャル成長(第 39 回法政大学 イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
56.
|
2020/12/16
|
マイクロ波プラズマ CVD を用いた高品質ホモエピタキシャルダイヤモンドの高速成長(第 39 回法政大学 イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
57.
|
2020/12/11
|
超微粒子原子核乾板NITにおける荷電粒子のエネルギー損失量と速度に対する潜像形成効率(日本写真学会オンライン秋季大会)
|
58.
|
2020/12/05
|
Energy dependence of nanostructure formation by fast C60 cluster ion beam on Si(第21回「イオンビームによる表面・界面の解析と改質」特別研究会)
|
59.
|
2020/12/04
|
Crystallization of thin amorphous Si layer by electron or ion beam irradiation: effect of electronic energy deposition(第21回「イオンビームによる表面・界面の解析と改質」特別研究会)
|
60.
|
2020/09/16
|
低速イオンを用いたAgBr:Iナノ半導体発光の研究(日本物理学会 2020年秋季大会)
|
61.
|
2020/09/08
|
C60クラスターイオンビーム照射によるSi表面構造の形成(2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会)
|
62.
|
2020/09/08
|
RBS 法による膜厚測定から求めた高エネルギータングステンの自己スパッタリング収率の測定(2020年 第81回応用物理学会秋季学術講演会)
|
63.
|
2020/03/13
|
イオンビームによる薄膜・表面の構造組成分析(第67回応用物理学会春季講演会 シンポジウム: 量子ビームによる表面物性・構造解析の新展開)
|
64.
|
2019/12/18
|
CO熱拡散によるSiO2/Si界面へのSiCナノ微結晶粒子の形成(第38回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
65.
|
2019/12/18
|
P, Oイオン注入室温 ,900℃ とポストアニール(1150℃)によって形成したIIa型CVDダイヤモンドの電気特性(第38回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
66.
|
2019/12/18
|
Si単結晶基板表面に形成した非晶質Si層の結晶化メカニズム ―EBIECとIBIECの比較―(第38回法政大学イオン工学研究所シンポジウム)
|
67.
|
2019/12/18
|
全面SiO2層に向けた電子衝突蒸着Si層の結晶成長条件の検討(第38回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
68.
|
2019/12/18
|
室温11B+イオン注入及び1150°C,1300°Cアニール処理によるIIa型ダイヤモンド基板への高効率p型Bドーピング(第38回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
69.
|
2019/11/13
|
室温11B+イオン注入及び1150°C,1300°Cアニール処理によるIIa型ダイヤモンド基板への高効率p型Bドーピング(第33回ダイヤモンドシンポジウム)
|
70.
|
2019/03/20
|
C60クラスターイオンビームを照射したSiとGeの表面構造評価(日本金属学会2019年春季講演大会)
|
71.
|
2019/03/16
|
最先端の物理的・化学的手法から探る凝縮相の放射線分解・反応ダイナミクス ーまとめー(2019年 日本物理学会 年会 領域1合同シンポジウム)
|
72.
|
2018/12/11
|
C60クラスターイオンビームを照射したSiとGeの表面構造評価(QST高崎サイエンスフェスタ2018)
|
73.
|
2018/12/08
|
Sputtering yield of thin Si(100) film impinged by monoatomic and diatomic nitrogen ions(第19回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会)
|
74.
|
2018/12/08
|
The epitaxial growth of deposited amorphous Si layer on hydrogen-terminated surfaces using ion beam induced epitaxial crystallization with ion beam mixing(第19回「イオンビームによる表面・界面解析」特別研究会)
|
75.
|
2018/12/05
|
SiC単結晶基板の酸素イオン注入による埋め込み絶縁層の形成(II)(第37回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
76.
|
2018/12/05
|
n型ドーパントイオン注入したダイヤモンド半導体の電気的活性化(第37回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
77.
|
2018/12/05
|
水素終端単結晶Si基板上へ堆積した非晶質Si層のイオンビームミキシングを伴ったイオンビーム誘起低温結晶成長(第37回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
78.
|
2018/12/05
|
高温(1000℃)Bイオン注入したIIaタイプCVDダイヤモンド基板の電気特性(第37回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
79.
|
2018/11/15
|
高温(1000C)Bイオン注入したIIaタイプCVDダイヤモンド基板の電気特性(第32回ダイヤモンドシンポジウム)
|
80.
|
2018/09
|
The remarkable p-type carrier transport induced by 1000C B and C ion implantation into the IIa diamond substrates followed by 1150C annealing(29-th International Conference of Diamond and Carbon Materials)
|
81.
|
2018/07/03
|
Formation of nano-porous surface structures by fast C60 beam bombardments(28th International Conference on Atomic Collision in Solids)
|
82.
|
2018/07/03
|
The sputtering yield of crystalline Si(100) surface by monoatomic and diatomic nitrogen ions impact(28th International Conference on Atomic Collision in Solids)
|
83.
|
2018/06
|
The epitaxial growth of deposited amorphous Si layer on hydrogen-terminated surfaces using ion beam mixing treatment(21st International Conference on Ion Beam modification of Materials)
|
84.
|
2018/02/09
|
イオン散乱による薄膜・表面の深さ方向定量分析(平成 29 年度関西支部セミナー ~イオンビームによる物性研究の新展開~)
|
85.
|
2017/12
|
CTプローブを用いた単一SiC微結晶のSTM発光分光のための試料作製(第36回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
86.
|
2017/12
|
n型ダイヤモンド半導体基板におけるオーミック電極構造の簡略化(第36回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
87.
|
2017/12
|
SiC単結晶基板の酸素イオン注入による埋込絶縁層の形成(第36回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
88.
|
2017/12
|
Si基板上に形成されたパタンSiO2膜をマスクにした酸素イオン注入(第36回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
89.
|
2017/12
|
パタン化されたSOI構造形成に向けた電子衝突蒸着Si層のホモエピタキシャル成長条件の検討(第36回法政大学イオンビーム研究所シンポジウム)
|
90.
|
2017/11/05
|
C60クラスターイオンビーム照射によるナノファイバー直径の制御(高知工科大学 総合研究所 ナノテク研シンポジウム2017)
|
91.
|
2017/11
|
1000C高温イオン注入したIIaダイヤモンド基板の1150C熱処理後の著しい電気特性改善(第31回ダイヤモンドシンポジウム)
|
92.
|
2017/10
|
Depth profiling of interfacial fluctuation with nanometer order in ultrathin silicon-on-insulator structure(The 23rd International Conference on Ion Beam Analysis)
|
93.
|
2017/10
|
The RBS analysis for a thin amorphous Si layer formed on clean and H-terminated Si(001) surfaces followed by medium-energy IBIEC treatments(The 23rd International Conference on Ion Beam Analysis)
|
94.
|
2017/09
|
Bイオンを用いたMeV級古典RBS法によるナノメートルオーダ界面揺らぎの定量解析(日本物理学会 講演番号:23aA18-4)
|
95.
|
2017/09
|
Substrate temperatures dependence during B+-implantation for electrical and optical properties in forming p-type diamond(2017 International Conference on Diamond and Carbon Materials)
|
96.
|
2017/09
|
清浄表面および水素終端化Si(001)表面上に形成した極薄非晶質Si層の中エネルギーイオンビーム照射による再結晶化レートと界面水素量依存性(応用物理学会 学術講演会 講演番号:7a-C21-13)
|
97.
|
2016/12
|
Chemical cleaning effect on metallic multilayer electrodes prepared for ohmic property measurements of n-type diamond substrates(第17回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会)
|
98.
|
2016/12
|
CTプローブを用いた高空間分解能CL/PL複合評価のための光学系の作製(第35回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
99.
|
2016/12
|
Siへの高温低エネルギー酸素イオン注入法による超極薄SOI構造形成の研究(第35回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
100.
|
2016/12
|
Tiイオン注入によるn型ダイヤモンド半導体基板へのオーミック電極構造の形成(第35回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
101.
|
2016/12
|
パタン化されたSOI構造形成に向けた電子ビーム蒸着Si層のホモエピタキシャル成長条件の検討(第35回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
102.
|
2015/12
|
Synthesis of an ultrathin Si layer separated by a buried oxide formed by O+ implantation in Si(001) substrates(第16回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会)
|
103.
|
2015/09
|
Growth mechanism of cobalt clusters on flat and defect-induced highly-oriented pyrolytic graphite surfaces(International Conference on Diamond and Carbon Materials)
|
104.
|
2015/03
|
Arイオン照射によるダイヤモンド半導体用オーミック電極の形成(応用物理学会 学術講演会 講演番号:11p-A21-1)
|
105.
|
2014/12
|
Arイオン照射によるダイヤモンド半導体用オーミック電極の形成(第33回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
106.
|
2014/12
|
Formation of SOI structure by ultrahigh-temperature oxygen implantation(第15回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会)
|
107.
|
2014/12
|
Si基板中への高温酸素イオン注入により形成したSOI構造の評価(第33回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
108.
|
2014/12
|
真空一貫プロセスによるCNT成長用金属ナノ粒子形成法の研究(第33回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム 2014年12月)
|
109.
|
2014/09
|
Formation of SIMOX-SOI structure by high-temperature oxygen implantation(19th International Conference on Ion Beam Modification of Materials)
|
110.
|
2014/09
|
Si基板中への高温酸素イオン注入により形成したSOI構造の評価(応用物理学会 学術講演会 講演番号:18p-A14-18)
|
111.
|
2013/12
|
神奈川大学イオン加速器の現状-炭素・シリコン系材料の高機能化の研究-(第14回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会)
|
112.
|
2012/12
|
STM, RHEEDによるCo/Graphite表面観察(第31回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
113.
|
2012/12
|
ダイヤモンド半導体の電気特性評価のための電極構造の検討(第31回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
114.
|
2012/12
|
密度汎関数法によるダイヤモンド半導体中の不純物準位の計算(第31回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
115.
|
2012/12
|
マイクロ波プラズマCVDによるCNTの低温成長(第31回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
116.
|
2012/12
|
高温イオン注入したFe触媒からの熱フィラメントCVDによるCNT成長(第31回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
117.
|
2012/10
|
Analysis of depth redistribution of implanted Fe near SiO2/Si interface(International Conference on Highly Swift Ion Beam)
|
118.
|
2012/09
|
Low temperature growth of SWCNT by microwave- plasma-enhanced CVD from hot- ion-implanted catalysts(International Conference on Diamond and Carbon Materials)
|
119.
|
2012/09
|
高温イオン注したFe触媒微粒子からの熱フィラメントCVDによるCNTの低温成長(応用物理学会 学術講演会 講演番号:11p-C2-4)
|
120.
|
2012/03
|
マイクロ波プラズマCVDによるイオン注入形成FeクラスターからのCNTの低温成長(応用物理学会 学術講演会 講演番号:15a-A3-5)
|
121.
|
2011/12
|
SiO2/Si膜中へイオン注入されたFeの拡散・反応過程の研究(第30回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
122.
|
2011/12
|
SiO2/Si膜中へイオン注入されたFeの拡散・反応過程の研究(第12回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会 [東京大学])
|
123.
|
2011/12
|
STM, RHEEDによるCo/Graphite表面観察(第30回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
124.
|
2011/12
|
ダイヤモンド半導体電気測定のための電極構造の検討(第25回ダイヤモンドシンポジウム [産業技術総合研究所])
|
125.
|
2011/12
|
水素プラズマによるSiO2/Siエッチング効果のRBS -ERDA分析(第12回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会 [東京大学])
|
126.
|
2011/12
|
マイクロ波プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜の分析評価(第30回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
127.
|
2011/09
|
SiO2/Si中へイオン注入されたFeの拡散・反応過程の研究(日本物理学会 秋季講演会 [富山大学] 講演番号:22aGQ-12)
|
128.
|
2011/09
|
SiO2膜中への高温イオン注入により形成したFeナノ微粒子からの単層カーボンナノチューブ成長(日本物理学会 秋季講演会 [富山大学] 講演番号:23pSB-31)
|
129.
|
2011/09
|
高温Feイオン注入形成微粒子からのマイクロ波プラズマCVDによる単層カーボンナノチューブ成長(応用物理学会 学術講演会 [山形大学] 講演番号:1aZF-7)
|
130.
|
2011/09
|
高温イオン注入によるSiO2/Si界面へのCoクラスターの形成と評価及びCVD法によるカーボンナノチューブ成長(応用物理学会 学術講演会 [山形大学] 講演番号:1aZF-8)
|
131.
|
2011/05
|
Carbon nanotube growth from Fe nanoparticle formed by hot-ion-implantation into the SiO2/Si interface(European Materials Research Society 2011 Spring Meeting [Nice, FRANCE])
|
132.
|
2011/03
|
単一半導体を用いた新ソースヘテロ構造の検討:歪みSi層の緩和メカニズム(応用物理学会 学術講演会 [神奈川工科大学] 講演番号:26aKD-12)
|
133.
|
2010/12
|
ダイヤモンドIb基板のホール効果測定法による電気的評価(第29回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
134.
|
2010/12
|
低速電子線回折・走査型トンネル顕微鏡を用いたSi・グラファイト表面観察(第29回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
135.
|
2010/12
|
ホットイオン注入形成微粒子を種触媒とするCNT生成法の研究(第29回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
136.
|
2010/12
|
イオン注入法を用いたカーボンナノチューブの種触媒微粒子の形成と断面TEM、RBSによる評価の研究(第11回イオンビームによる表面・界面解析特別研究会 [名城大学])
|
137.
|
2010/12
|
高温イオン注入によるSiO2/Si界面へのCoクラスター形成と断面TEM観察を中心とした評価の研究(第29回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
138.
|
2010/12
|
高温イオン注入によるSiO2/Si界面へのFe微粒子の形成とRBS・TEMによる評価の研究(第29回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
139.
|
2010/11
|
ラザフォード後方散乱法によるダイヤモンド基板上に成長したAu/TiおよびAu/Pt/Ti電極の熱的安定性評価(第24回ダイヤモンドシンポジウム [東京工業大学])
|
140.
|
2010/09
|
SiC{0001} 表面上のNi シリサイド反応によるグラフェン層の形成(応用物理学会 学術講演会 [長崎大学] 講演番号:16aZM-6)
|
141.
|
2010/09
|
ホットイオン注入形成微粒子を種触媒とするCNT生成法の研究(応用物理学会 学術講演会 [長崎大学] 講演番号:17aZQ-10)
|
142.
|
2010/09
|
高温イオン注入によるSiO2/Si界面へのFeクラスター形成と評価の研究(応用物理学会 学術講演会 [長崎大学] 講演番号:17aZQ-9)
|
143.
|
2010/03
|
ダイヤモンド基板上に形成したAu/TiおよびAu/Pt/Ti膜のRBS分析(応用物理学会 学術講演会 [東海大学] 講演番号:18pTV-5)
|
144.
|
2010/03
|
ホットイオン注入形成Fe微結晶粒子を種触媒とするCNT生成法の研究(応用物理学会 学術講演会 [東海大学] 講演番号:18aTE-5)
|
145.
|
2009/12
|
RBS analysis of Au/(Pt)/Ti-multilayer grown on C(001) surfaces(第28回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
146.
|
2009/12
|
中電流型イオン注入装置を用いたCNT形成法について(第28回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
147.
|
2009/12
|
ホモエピタキシャルマイクロ波プラズマCVDダイヤモンド゙薄膜の各種分析評価(第28回法政大学イオンビーム工学研究所シンポジウム)
|
148.
|
2009/11
|
Elemental depth profiles of Au/Pi/Ti films grown on diamond (001) surface studied by Rutherford backscattering spectroscopy(5th International Workshop on High-Resolution Depth Profiling)
|
149.
|
2009/11
|
Narrow Nuclear Resonance Profiling and Stable Isotopic Tracing Study of the Diffusion and Reaction of Carbon Monoxide Molecules in Thermal Silica and at its Interface with Silicon(5th International Workshop on High-Resolution Depth Profiling)
|
150.
|
2009/11
|
ホモエキタキシャルマイクロ波プラズマCVDダイヤモンド薄膜の各種分析評価(第23回ダイヤモンドシンポジウム [千葉])
|
151.
|
2008/10
|
Atomic and Electronic Structure of Au/Si(111) Determined by MEIS and SR-PES(8th Janan-Russia Seminar on Semiconductor Surfaces)
|
152.
|
2008/10
|
Isotopic tracing study of the growth of silicon carbide nano-crystals at the SiO2/Si interface by CO annealing(Ion Beam Analysis France)
|
153.
|
2008/09
|
NiAl(110)上に形成された極薄Al2Ox膜の構造解析(日本物理学会 春季講演会 [近畿大学] 講演番号:25pTE-8)
|
154.
|
2008/09
|
Si(111) 7×7表面上における極薄Auの成長過程(日本物理学会 秋季講演会 [岩手大学] 講演番号:23aXB-4)
|
155.
|
2008/09
|
清浄および室温酸化したSiC(000-1)-3×3 表面の構造(日本物理学会 秋季講演会 [岩手大学] 講演番号:23aXB-6)
|
156.
|
2008/03
|
中エネルギーH、Heイオンの固体最表面での荷電変換(日本物理学会 春季講演会 [近畿大学] 講演番号:23aRB-6)
|
157.
|
2008/03
|
中エネルギーイオン散乱スペクトルの非対称性(日本物理学会 春季講演会 [近畿大学] 講演番号:23aRB-7)
|
158.
|
2007/09
|
6H-SiC{0001} 3×3表面の構造と酸素および一酸化窒素の吸着構造の研究(日本物理学会 秋季講演会 [北海道大学] 講演番号:22aXJ-11)
|
159.
|
2007/09
|
Ni(111)およびPd(111)上の極薄Au膜成長とO2, NOの吸着(日本物理学会 秋季講演会 [北海道大学] 講演番号:21aXJ-2)
|
160.
|
2007/09
|
Surface characterization of reconstructed 6H-SiC (000-1) and adsorbed structure of oxygen(9th European Conference on Surface Crystallography and Dynamics)
|
161.
|
2007/09
|
The structures of clean and oxygen- and nitrogen- adsorbed 6H-SiC{0001} 3×3 surfaces(International Conference on Silicon Carbide and Related Materials)
|
162.
|
2007/09
|
中エネルギーイオン散乱と分子動力学計算によるNiAl(110)表面構造解析(日本物理学会 秋季講演会 [北海道大学] 講演番号:21aXJ-8)
|
163.
|
2007/03
|
6H-SiC(000-1)-C終端3×3表面の構造と電子状態(日本物理学会 春季講演会 [鹿児島大学] 講演番号:21pTG-6)
|
164.
|
2006/09
|
SiC(000-1)-C-3×3表面の構造と電子状態(日本物理学会 秋季講演会 [千葉大学] 講演番号:26aYC-9)
|
165.
|
2006/09
|
SiC(11-20) 清浄表面の酸窒化過程; 界面の構造とキネティクス(日本物理学会 秋季講演会 [千葉大学] 講演番号:26aYC-10)
|
166.
|
2006/03
|
Ni(0.2-20ML)/6H-SiCの構造と電子状態分析(日本物理学会 春季講演会 [愛媛大学] 講演番号:27aYB-5)
|
167.
|
2005/12
|
Atomic and Electronic Structures of Ni Deposited on Si(111) at room temperature and Epitaxially Grown B-type NiSi2(111)/ Si(111)(5th International. Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices)
|
168.
|
2005/09
|
中エネルギーHeイオンの結晶表面での荷電変換過程(日本物理学会 秋季講演会 [同志社大学] 講演番号:19aYA-6)
|
169.
|
2005/09
|
極薄Ni/SiC(000-1)表面における 2R3x2R3 構造の解析(日本物理学会 秋季講演会 [同志社大学] 講演番号:22pYE-2)
|
170.
|
2005/09
|
極薄Ni/SiC(000-1)表面における擬3×1構造の解析(日本物理学会 秋季講演会 [同志社大学] 講演番号:22pYE-1)
|
171.
|
2005/09
|
極薄Ni 蒸着した6H-SiC(000-1)-2×2 表面の構造(日本学術振興会 マイクロビームアナリシス141 委員会 第121回研究会)
|
172.
|
2005/06
|
Atomic and electronic structures of ultrathin-Ni- deposited SiC(000-1)-2×2 surface(17th International Conference of Ion Beam Analysis)
|
173.
|
2005/03
|
極薄Ni/6H-SiC(000-1)表面の原子配列と電子状態(I)(日本物理学会 春季講演会 [東京理科大学] 講演番号:27aWB-2)
|
174.
|
2005/03
|
極薄Ni/SiC(000-1)表面の原子配列と電子状態(II)(日本物理学会 春季講演会 [東京理科大学] 講演番号:27aWB-3)
|
175.
|
2005/03
|
第一原理計算による6H-SiC(000-1) -2×2表面構造と電子状態(日本物理学会 春季講演会 [東京理科大学] 講演番号:27aWB-1)
|
176.
|
2004/10
|
SiC(000-1)-2×2表面構造と初期酸化カイネティクス(シリコンカーバイド及びワイドギャップ半導体研究会 [名古屋])
|
177.
|
2004/09
|
6H-SiC(000-1)-2×2 Si-rich清浄表面の構造(日本物理学会 秋季講演会 [青森大学] 講演番号:15pXG-1)
|
178.
|
2004/09
|
First-Principles Calculations of Si-rich 2×2 Reconstruction and Oxidation of the C-terminated 6H-SiC(000-1)(5th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials)
|
179.
|
2004/09
|
Ni-silicide反応に伴うSiの表面偏析(日本物理学会 秋季講演会 [青森大学] 講演番号:14pXG-1)
|
180.
|
2004/09
|
Surface structure and oxidation mechanism for Si-rich 6H-SiC(000-1) 2×2 surface(5th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials)
|
181.
|
2004/09
|
低,及び中エネルギー領域でのイオン後方散乱における標的電子の応答効果(日本物理学会 秋季講演会 [青森大学] 講演番号:13aTG-9)
|
182.
|
2004/09
|
極薄Niと6H-SiC(000-1)の界面反応過程(日本物理学会 秋季講演会 [青森大学] 講演番号:15pXG-2)
|
183.
|
2004/07
|
Dynamic Response of Target Electrons upon Low and Medium Energy Ion Impact(21st Int. Natl. Conf. on Atomic Collisions in Solids)
|
184.
|
2004/05
|
Oxidized surface structure and oxidation kinetics for C-terminated 6H-SiC(000-1)(日本学術振興会 マイクロビームアナリシス141 委員会 第116回研究会)
|
185.
|
2004/03
|
6H-SiC(000-1)-2×2 表面構造と初期酸化過程(日本物理学会 春季講演会 [九州大学] 講演番号:28aWP-3)
|
186.
|
2003/12
|
6H-SiC(0001) R3xR3 表面上における極薄Ni膜のエピタキシャル成長(第4回イオンビームよる表面・界面解析特別研究会 [理化学研究所(和光)])
|
187.
|
2003/11
|
Interfacial reactions between ultrathin Ni-layer and 6H-SiC(0001) surface(7th International Conference on Atomically Controlled surfaces, Interfaces and Nanostructures)
|
188.
|
2003/10
|
Epitaxial growth of ultrathin Ni-layer on 6H-SiC(0001) surface(4th International Symposium on Atomic Level Characterization for New Material and Devices)
|
189.
|
2003/09
|
6H-SiC(0001) R3xR3 表面上における極薄Ni膜のエピタキシャル成長(日本物理学会 秋季講演会 [岡山大学] 講演番号:22aYD-5)
|
190.
|
2003/09
|
熱処理による極薄Ni/SiC(0001)界面の初期反応過程(日本物理学会 秋季講演会 [岡山大学] 講演番号:22aYD-6)
|
191.
|
2003/06
|
Inelastic energy loss and spectrum shape for medium energy He ions undergoing a large-angle single collision with Si(111) -Sb(16th International Conference of Ion Beam Analysis)
|
192.
|
2003/06
|
Initial oxidation of 6H-SiC(11-20) surface studied by high-resolution MEIS and SR-PES(16th International Conference of Ion Beam Analysis)
|
193.
|
2003/03
|
6H-SiC(11-20)表面の初期酸化過程(日本物理学会 春季講演会 [東北大学] 講演番号:29aZF-1)
|
194.
|
2002/11
|
Charge exchange for medium energy He and Ne ions in a large-angle collision at solid surfaces(2nd International Workshop on Ion Beam Techniques for the Analysis of Composition and Structure with Atomic Layer Resolution)
|
195.
|
2002/11
|
Surface Structure and Initial Oxidation of 6H-SiC(11-20)(2nd International Workshop on Ion Beam Techniques for the Analysis of Composition and Structure with Atomic Layer Resolution)
|
196.
|
2002/11
|
Surface structure of 6H-SiC(11-20 ) studied by medium energy ion scattering and SR-light-induced photoelectron spectroscopy(8th Japan-Russia International Symposium on Interaction of Fast Charged Particles with Solids)
|
197.
|
2002/09
|
6H-SiC(11-20 )表面の表面構造と初期酸化過程(日本物理学会 秋季講演会 [中部大学] 講演番号:8aSM-7)
|
198.
|
2002/09
|
KI(001)及びRbI(001)表面格子ダイナミクスの高分解能イオン散乱による解析(日本物理学会 秋季講演会 [中部大学] 講演番号:6pWE-1)
|
199.
|
2002/09
|
Ni(1ML)/SiC(0001)の熱処理による構造変化(日本物理学会 秋季講演会 [中部大学] 講演番号:8aSM-6)
|
200.
|
2002/09
|
動的原子間ポテンシャル-入射イオン誘起分極効果(日本物理学会 秋季講演会 [中部大学] 講演番号:6aWE-5)
|
201.
|
2002/03
|
中エネルギーイオン散乱とSR光電子分光による6H-SiC(0001)-R3xR3 表面初期酸化過程の研究(日本物理学会 春季講演会 [立命館大学] 講演番号:27pYF-4)
|
202.
|
2002/03
|
中エネルギーイオン散乱法と分子動力学計算によるKI(001)表面格子振動特性の解析(日本物理学会 春季講演会 [立命館大学] 講演番号:25pWD-2)
|
203.
|
2002/03
|
単回・大角散乱におけるHe,Neイオンの荷電変換(日本物理学会 春季講演会 [立命館大学] 講演番号:24aZA-9)
|
204.
|
2002/03
|
熱処理に伴うNi(1ML)/Si(111)-7×7構造変化過程の原子間力顕微鏡,イオン散乱,光電子分光法による研究(日本物理学会 春季講演会 [立命館大学] 講演番号:27pYF-11)
|
205.
|
2001/12
|
単回・大角散乱における中エネルギーHeイオンの荷電変換(イオンビームフォーラム21 [岡山理科大学])
|
206.
|
2001/11
|
Initial Oxidation of 6H-SiC(0001)- Surface Studied by Medium Energy Ion Scattering Combined with SR Photoelectron Spectroscopy(3rd International Symposium on Atomic Level Characterization for New Material and Devices)
|
207.
|
2001/09
|
中エネルギーHeイオンの大角・単回衝突後の荷電変換(日本物理学会 秋季講演会 [徳島文理大学] 講演番号:18aTF-10)
|
208.
|
2001/09
|
中エネルギーイオン散乱とSR光電子分光によるSi(001)-2×1表面初期酸化過程の研究(日本物理学会 秋季講演会 [徳島文理大学])
|
209.
|
2001/09
|
中エネルギーイオン散乱と分子動力学計算によるRbI(001)表面振動相関の検証(日本物理学会 秋季講演会 [徳島文理大学] 講演番号:17pWD-2,)
|
210.
|
2000/11
|
中エネルギーイオン散乱とSR光電子分光によるSi(001)-2×1表面初期酸化過程の研究(日本表面科学会 関西薄膜・表面分析研究会)
|
211.
|
2000/09
|
Si(111)-7×7 初期酸化過程の中エネルギーイオン散乱・光電子分光分析(日本物理学会 秋季講演会 [新潟大学] 講演番号:22aWB-13)
|
212.
|
2000/09
|
中エネルギーHeイオン散乱分光スペクトルに現れる異常表面ピークの解析(日本物理学会 秋季講演会 [新潟大学] 講演番号:23pYN-3)
|
213.
|
2000/09
|
中エネルギーイオン散乱とSR光電子分光によるSi(001)-2×1表面の初期酸化過程の解明(日本物理学会 秋季講演会 [新潟大学] 講演番号:22aWB-12)
|
214.
|
2000/09
|
イオン散乱分析と分子動力学計算による RbI(001)表面構造解析(日本物理学会 秋季講演会 [新潟大学] 講演番号:22aWB-7)
|
215.
|
2000/08
|
Oxidation processes for Si(111) 7×7 surfaces analyzed in situ by synchrotron-radiation-induced photoemission and medium energy ion scattering(7th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation)
|
216.
|
2000/03
|
中エネルギーイオン散乱とSR光電子分光によるSi(111)-7×7表面初期酸化過程の研究(日本表面科学会 関西学生セッション [大阪大学])
|
217.
|
1999/09
|
高分解能中エネルギーイオン散乱によるTiC(001)及びTaC(001)表面の緩和とランプリングの決定(日本物理学会 秋季講演会 [岩手大学] 講演番号:27aY-9)
|
5件表示
|
全件表示(217件)
|